- 微处理器控制的涡流作用、热量和氮气排放加速蒸发
•微处理器控制的涡流作用、热量和氮气排放速度蒸发
•Labconco的RapidVap N2和N2/48干蒸发系统是旋转蒸发器和Kuderna丹麦设备的优秀自动替代品;适用于各种腐蚀性化学品
•选择型号包括RS-232链路
•特点:双盖夹,方便,易于设置的程序,隔离的机械部件,报警信号,冷却区隔离玻璃器皿样品
•所需附件:玻璃器皿,0.6 CFM/17 LPM氮气和气体压力调节器(不超过20 psi)
•材料:PTFE涂层铝室和样品块、环氧树脂涂层铸铝柜底座和丙烯酸/PVC热塑性上外壳、玻璃盖、无酚垫片(用于完全密封)
•干块加热的最高温度:控制加热至100ºC
•微处理器控制的变速电机:500 rpm
•二氯甲烷蒸发率:高达7.3毫升/分钟/管
•水蒸发率:1.1毫升/分钟/管
•内存:9个用户设置程序
•ETL和ETL- c上市;UL和CE认证
RapidVap N2和N2/48干蒸发系统将氮气或干气流到样品表面,以直接降低液体上的分压。这种方法加快了蒸发速度,有助于在溶剂蒸发时去除溶剂。
RapidVap N2/48型号具有8个群集,每个群集有6个端口,最多可容纳48个小样本。N2型号包括一个可容纳8个大样本(每个样本高达450 mL)的模块,使其能够有效地进行环境和残留检测
这些RapidVap系统独特的冷却区功能是专为样本不应干燥的环境而设计的。达到设定终点后,冷却区可显著降低蒸发速率,使样品绝缘,并在样品达到干燥状态之前,允许操作员有足够的时间将其移除或执行溶剂交换程序。
当计时的终点发生时,当系统感知到过程即将完成时,系统会发出报警信号,从而方便无人值守的操作。
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